Microstructure and Optical Characterization of Magnetron Sputtered NbN Thin Films

Some fundamental studies on the preparation, structure and optical properties of NbN films were carried out. NbN thin films were deposited by DC reactive magnetron sputtering at different N2 partial pressures and different substrate temperatures ranging from –50 ℃ to 600 ℃. X-ray diffraction analysis (XRD) and scanning electron microscopy (SEM) were employed to characterize their phase com- ponents, microstructures, grain sizes and surface morphology. Optical properties inclusive of refractive indexes, extinction coefficients and transmittance of the NbN films under different sputtering conditions were measured. With the increase in the N2 partial pressure, δ-NbN phase structure gets forming and the grain size and lattice constant of the cubic NbN increasing. The deposited NbN film has relatively high values of refractive index and extinction coefficient in the wavelength ranging from 240 nm to 830 nm. Substrate tem- perature exerts notable influences on the microstructure and optical transmittance of the NbN films. The grain sizes of the δ-NbN film remarkably increase with the rise of the substrate temperature, while the transmittance of the films with the same thickness decreases. Ultra-fine granular film with particle size of several nanometers forms when the substrate is cooled to –50 ℃, and a remarkable aug- mentation of transmittance could be noticed under so low a temperature.     

变厚度锥形壳的固有频率

 变厚度锥形壳体的固有频率使用有限元计算已无困难,但有限元法编制程序复杂、费时多。本文用半解析法,由锥形壳的基本方程导出等价的8个一阶微分方程,用数值积分方法得到变厚度锥形壳体的固有频率。方法简单,编程容易,计算精度已满足工程计算要求。     

考虑可压缩与热传导的壁面函数边界条件及其应用

考虑到可压缩和热传导效应的壁面函数边界条件,被耦合到了采用k-ω两方程湍流模型、用有限体积法求解N-S方程的程序中。壁面函数基于耦合的速度和温度型,并且在边界层内的粘性子区和对数区内一致有效。引入壁面函数边界条件后,通过算例验证在y <100的范围内,得到的物面压力、摩阻、热流与实验结果比较,结果可靠。而无壁面函数边界条件时,要得到相同精度的结果,要求y ≈1。壁面函数的引入,为工程上准确预测飞行器在湍流流动中表面受力与气动热提供了保障。     

翼型风洞侧壁干扰的数值模拟研究

运用Navier-Stokes数值模拟对翼型模拟试验对风洞侧壁干扰进行模拟，将简单代数湍流模型扩展用于机翼／风洞侧壁结合区流动，分析了风洞实验侧壁干扰问题的形成机理和影响翼型实验侧壁干扰的各种因素，如翼型展长、风洞侧壁边界层厚度及侧壁边界层抽吸等，对实验结果的影响，得出了一些有用的结论。计算格式空间采用中心有限体积离散，时间采用多步Runge-Kutta时间步长格式进行积分。计算结果证明了该方法的可行性和优越性。     

高升力多段翼型洞壁干扰修正

 Erisson对高升力多段翼型的洞壁干扰问题进行过理论计算。Moury和Labrujère对上述问题也进行过一些研究,可惜Moury的实验是在开闭比为20％的开孔壁风洞中进行的,而Labrujère仅给出个别情况的实验结果,且其测压点较多,计算较繁,不易实时处理。     

零件纵向厚度的计算方法

在用车床加工空心旋转体零件时，通过测量我们可以得出外轮廓曲线，但根据零件的设计技术要求，不同点处的法向厚度不同，因此在用车床加工时需要计算出各点的纵向厚度。本文给出了根据法向厚度及外曲线计算纵向厚度的方法．该方法简单、可靠，易于计算，而且由此方法计算的结果应用到实际加工时，效果非常好，该方法实用性强，易于推广使用。     

低速风洞半模实验壁压法洞壁干扰修正

 <正> 1.前言 低速风洞半模实验有许多优点,但伴随而来的是洞壁干扰修正问题。大迎角、大堵塞度情况洞壁干扰修正值相当大。如某后掠大展弦比机翼半模,迎角90°时堵塞度达18％,阻力系数洞壁干扰修正值可达真实值的70％。又如某农机机翼半模,迎角40°时堵塞度达8％。压力系数洞壁干扰修正值达真实值的30％。因此,在进行半模实验时,洞壁干扰修正的准确性十分重要。     

吸气条件对圆柱非定常分离流影响的数值研究

本文根据二维可压非定常Ｎ－Ｓ方程，基于Ｂｅａｍ ａｎｄ Ｗａｒｍｉｇｎ及Ｓｔｅｇｅｒ的方法，在圆柱绕流出现周期分离后，施加吸气条件，研究气对于圆柱非定常绕流的影响，计算结果表明，在恰当地区域施加恰当的吸气条件，可以希望通过减小压差阻力来减小总阻力，吸气还有抑制尾迹中非对称流动的作用，从而使圆柱所受的垂直于来流方向的升力的变化幅度减小，变化频率减小，但是吸气会增加磨擦阻力，过份的吸气会导致摩阻增大太     

磁控溅射沉积工艺条件对薄膜厚度均匀性的影响

薄膜厚度均匀性是衡量薄膜质量和镀膜装置性能的一项重要指标.在自行设计的磁控溅射沉积设备上,对薄膜沉积工艺中靶基间距、溅射功率、工作气压对膜厚均匀性的影响进行了研究,由连续光谱椭圆偏光仪SE800测量薄膜厚度.结果表明:靶基间距较大的情况下,薄膜均匀性明显改善;溅射功率和工作气压对薄膜均匀性也有较大的影响.     

尖前缘翼干扰区的壁面压力和热流率分布

本文给出Ｍ＿∞＝７．８和６．７２，Ｒｅ＝３．５×１０￣７／ｍ和５．４×１０￣７／ｍ气流绕迎角为２０°、３０°和３５°尖前缘翼运动时，平板锥型干扰区的壁面压力和热流率分布。结果表明：（１）平板锥型干扰区的特征几何尺度与无粘激波角β＿０和翼迎角α相关，而壁面压力和热流率的峰值与法向马赫数Ｍ＿ｎ相关。（２）翼面压力和热流率分布由于受拐角涡影响，前者在翼根部呈波谷状，而后者呈波峰状，影响尺度与翼前缘处来流边界层厚度有关。